觀點評分 6/10黃仁勳:中國將在2030年前自研出先進光刻裝置黃仁勳認為中國三到四年內可掌握先進半導體裝置,2030年前造出本土先進光刻機,稱"只是時間問題"。來源:Tom's Hardware·2026-09-16 19:30 北京·#晶片字號AAAA訂閱《讀懂AI時代》每早 8 點一封,昨天 AI 圈大事一次讀完。免費。郵箱地址訂閱本條暫無中文擴充套件報道,可點選下方按鈕直達原文。閱讀原文 · Tom's Hardware ↗延伸閱讀相關深度報道系列 · 中國AI深度華為用「連」補「算」:十萬卡叢集利用率從20%提到35%,差距補回了多少系列 · 中國AI深度晶片管制三年總清算:華盛頓到底給自己買到了幾個月?系列 · 中國AI深度十萬卡「登峰」:曙光8000落成,全國產算力的真實成色相關每日新聞蘇姿豐:2026年是推理之年,AMD預計2030年CPU市場超2000億美元2026-10-13東山精密港股招股書失效後重新遞表,擬募資20億至30億美元2026-10-13大摩:儲存股週期頂部估值陷阱,亞洲儲存股累漲約9倍2026-10-13亞馬遜擬約70億美元洽購以色列AI公司Decart2026-10-13台積電台北股價開盤跌40新台幣,CXMT記憶體訊息引發亞洲晶片拋售2026-10-13