观点评分 6/10黄仁勋:中国将在2030年前自研出先进光刻设备黄仁勋认为中国三到四年内可掌握先进半导体设备,2030年前造出本土先进光刻机,称"只是时间问题"。来源:Tom's Hardware·2026-09-16 19:30 北京·#芯片字号AAAA订阅《读懂AI时代》每早 8 点一封,昨天 AI 圈大事一次读完。免费。邮箱地址订阅本条暂无中文扩展报道,可点击下方按钮直达原文。阅读原文 · Tom's Hardware ↗延伸阅读相关深度报道系列 · 中国AI深度华为用「连」补「算」:十万卡集群利用率从20%提到35%,差距补回了多少系列 · 中国AI深度芯片管制三年总清算:华盛顿到底给自己买到了几个月?系列 · 中国AI深度十万卡「登峰」:曙光8000落成,全国产算力的真实成色相关每日新闻苏姿丰:2026年是推理之年,AMD预计2030年CPU市场超2000亿美元2026-10-13东山精密港股招股书失效后重新递表,拟募资20亿至30亿美元2026-10-13大摩:存储股周期顶部估值陷阱,亚洲存储股累涨约9倍2026-10-13亚马逊拟约70亿美元洽购以色列AI公司Decart2026-10-13台积电台北股价开盘跌40新台币,CXMT内存消息引发亚洲芯片抛售2026-10-13