美国华盛顿研究机构「科技与国家治理能力中心」（Centre for Technology Statecraft）9月发布的一份报告指出，尽管美国已限制向中国出口先进半导体制造设备，中国晶圆厂仍在持续获得浸润式深紫外（DUV）微影系统。据香港《南华早报》2日报道，该报告估算，截至今年初，中国晶圆厂预计已取得343台浸润式DUV设备。

报告作者包括美国出口管制领域的前官员以及美国商务部科技政策前顾问。报告称，在这343台设备中，有270台属于荷兰半导体设备制造商艾司摩爾（ASML）的Twinscan NXT:1980i系统。报告进一步估算，仅2024年及2025年，中国晶圆厂为购买NXT:1980i系统就花费了超过130亿美元。

这一现象的背景是，美国出口管制禁止向中国出口规格更高的极紫外光曝光机（EUV），因此中国芯片制造商高度依赖不在美国出口管制范围内的浸润式DUV来生产先进半导体。虽然浸润式DUV在技术上落后于EUV，但经过调整后，仍可用于制造7奈米逻辑芯片，以及人工智能处理器所需的高阶记忆体——报告特别提到华为昇腾系列。

荷兰当局自2023年9月起规定，出口ASML规格更高的NXT:2000i及以上浸润式DUV需要许可证；此后也规定出口NXT:1980i系统需要许可证，但该型号的出口仍可逐案获得批准。报告认为，目前的做法留下了重大漏洞。

为堵塞这一漏洞，报告建议全面禁止向中国出口浸润式DUV，同时限制相关零件供应与维修服务。报告还建议美国与荷兰协调，或单方面将美国的出口管制扩大到采用美国技术的外国制造设备。

从产业角度看，这份报告触及当前半导体出口管制体系的一个核心争议：管制门槛应划在哪一代设备上。浸润式DUV本身并非最先进制程的必需设备，但通过多重曝光等工艺调整，它仍能支撑7奈米级逻辑芯片以及部分AI芯片所需的高带宽记忆体生产。这意味着，只要浸润式DUV及其零部件、维修服务仍可流入，中国在先进制程上的产能扩张就难以被完全阻断。

对ASML而言，NXT:1980i属于较早期型号，但中国厂商在2024至2025年为其投入超130亿美元，显示该型号在中国市场仍有可观需求。若美国推动全面禁令并限制零部件与维修，ASML的对华销售结构以及已售设备的后续服务收入都可能受到影响。对荷兰政府来说，是否进一步收紧许可、以及是否配合美国将管制延伸至采用美国技术的外国设备，涉及本国产业利益与盟友协调之间的平衡。

对中国芯片产业而言，报告所描述的存量设备规模，一定程度上解释了其在出口管制下仍能维持部分先进产能的原因；但若零部件与维修服务被限制，已购设备的长期运转与维护将面临不确定性，这也可能进一步强化国产设备替代的紧迫性。

需要注意的是，上述数字均来自该研究机构的估算与报告，并非官方统计。报告的建议能否转化为实际政策，仍取决于美国、荷兰等相关方的后续决策。