观点评分 6/10黄仁勋估中国2030年前自研出先进曝光机,外媒指技术仍有落差黄仁勋认为中国再花三四年即可开发出自家先进曝光设备,外媒则指出目前技术落差仍在。来源:TechNews 科技新报·2026-09-17 10:47 北京·#芯片字号AAAA订阅《读懂AI时代》每早 8 点一封,昨天 AI 圈大事一次读完。免费。邮箱地址订阅本条暂无中文扩展报道,可点击下方按钮直达原文。阅读原文 · TechNews 科技新报 ↗延伸阅读相关深度报道系列 · 中国AI深度华为用「连」补「算」:十万卡集群利用率从20%提到35%,差距补回了多少系列 · 中国AI深度芯片管制三年总清算:华盛顿到底给自己买到了几个月?系列 · 中国AI深度十万卡「登峰」:曙光8000落成,全国产算力的真实成色相关每日新闻美国AI数据中心规划规模超出芯片封装供给能力2026-09-30浪潮信息发布元脑SD200 Ultra,单机承载2.8万亿参数Kimi K32026-09-30华为5500颗Hi-ONE光引擎将进入4096卡昇腾960超节点2026-09-30AMD与英特尔9月各涨约29%,半导体ETF SOXX迈向6月以来最佳月度表现2026-09-30DeepSeek 携手华为开发昇腾芯片编程工具2026-09-30