荷蘭半導體裝置大廠艾司摩爾（ASML）對美國國會擬推動的《硬體技術管制多邊協調法案》（MATCH Act）再度表達疑慮。公司認為，若該法案進一步限制其向中國銷售深紫外光（DUV）微影裝置，不僅難以達到抑制效果，反而可能刺激中國加快本土替代技術的研發步伐。

ASML 財務長 Roger Dassen 在公司公佈第三季財報後向媒體表示，若該法案最終通過，將讓中國更有動機投入自行研發 DUV 相關技術。執行長 Christophe Fouquet 則指出，中國半導體裝置需求依然強勁，主要來自國內持續投資晶圓廠建設，相關需求預料可延續至 2027 年之後。

根據 ASML 最新財報，公司預估中國在 2026 年將貢獻約 20% 的總銷售額。這使中國市場成為 ASML 在美國政策壓力下必須權衡的重要一環。外界分析指出，ASML 一方面希望維持在中國市場的業務佈局，另一方面又必須回應美國對先進晶片供應鏈的管制要求，處境相當微妙。

報道並提到，ASML 已在評估可能的風險調整。公司先前傳出將自 2027 年 1 月起，對極紫外光（EUV）相關零元件與配件統一調漲 10%，顯示其可能已將部分潛在的 DUV 銷售壓力納入規劃。與此同時，中國半導體產業也持續推進成熟製程、裝置替換與自主創新，長期來看，這可能進一步改變 ASML 在中國市場的競爭環境。

從產業角度看，DUV 裝置是成熟製程與部分先進製程的關鍵工具，中國晶圓廠近年持續擴產，對這類裝置的需求構成 ASML 營收的重要支撐。若 MATCH Act 落地，短期內可能壓縮 ASML 來自中國的訂單，但同時也可能倒逼中國裝置商加速技術突破，從而在中長期改變全球微影裝置市場的競爭格局。對投資者而言，這一政策動向不僅關乎 ASML 的營收結構，也牽動整個半導體裝置供應鏈的估值敘事。