荷兰半导体设备大厂艾司摩爾（ASML）对美国国会拟推动的《硬件技术管制多边协调法案》（MATCH Act）再度表达疑虑。公司认为，若该法案进一步限制其向中国销售深紫外光（DUV）微影设备，不仅难以达到抑制效果，反而可能刺激中国加快本土替代技术的研发步伐。

ASML 财务长 Roger Dassen 在公司公布第三季财报后向媒体表示，若该法案最终通过，将让中国更有动机投入自行研发 DUV 相关技术。执行长 Christophe Fouquet 则指出，中国半导体设备需求依然强劲，主要来自国内持续投资晶圆厂建设，相关需求预料可延续至 2027 年之后。

根据 ASML 最新财报，公司预估中国在 2026 年将贡献约 20% 的总销售额。这使中国市场成为 ASML 在美国政策压力下必须权衡的重要一环。外界分析指出，ASML 一方面希望维持在中国市场的业务布局，另一方面又必须回应美国对先进芯片供应链的管制要求，处境相当微妙。

报道并提到，ASML 已在评估可能的风险调整。公司先前传出将自 2027 年 1 月起，对极紫外光（EUV）相关零组件与配件统一调涨 10%，显示其可能已将部分潜在的 DUV 销售压力纳入规划。与此同时，中国半导体产业也持续推进成熟制程、设备替换与自主创新，长期来看，这可能进一步改变 ASML 在中国市场的竞争环境。

从产业角度看，DUV 设备是成熟制程与部分先进制程的关键工具，中国晶圆厂近年持续扩产，对这类设备的需求构成 ASML 营收的重要支撑。若 MATCH Act 落地，短期内可能压缩 ASML 来自中国的订单，但同时也可能倒逼中国设备商加速技术突破，从而在中长期改变全球微影设备市场的竞争格局。对投资者而言，这一政策动向不仅关乎 ASML 的营收结构，也牵动整个半导体设备供应链的估值叙事。