觀點評分 6/10馬斯克:中國或兩到三年內靠光刻與晶片製造補齊算力缺口馬斯克稱中國AI大模型單位算力效能近全球頂尖,預計兩到三年內靠光刻與晶片製造補齊算力缺口。來源:華爾街見聞·2026-09-23 13:32 北京·#晶片#模型字號AAAA訂閱《讀懂AI時代》每早 8 點一封,昨天 AI 圈大事一次讀完。免費。郵箱地址訂閱本條暫無中文擴充套件報道,可點選下方按鈕直達原文。閱讀原文 · 華爾街見聞 ↗延伸閱讀相關深度報道系列 · 中國AI深度晶片管制三年總清算:華盛頓到底給自己買到了幾個月?系列 · 中國AI深度2.4 萬億引數也要開源:Qwen3.8 Max 和阿里的「雙旗艦」陽謀系列 · 中國AI深度敢定高價:Kimi K3 把中國 AI 的敘事從「便宜替代」翻了個面相關每日新聞三星與SK海力士400億美元回購提前收官,KOSPI失守7000點2026-10-08博通傳洽談約300億美元融資,助OpenAI採購定製AI晶片2026-10-08摩根士丹利:博通對32吉瓦資料中心電力缺口相對抗壓2026-10-08博通估值之爭:39.5倍市盈率貴不貴,關鍵看2027財年2026-10-08New Constructs 稱 Anthropic 將成 2026 年最荒謬 IPO2026-10-08