觀點評分 6/10黃仁勳估中國2030年前自研出先進曝光機,外媒指技術仍有落差黃仁勳認為中國再花三四年即可開發出自家先進曝光裝置,外媒則指出目前技術落差仍在。來源:TechNews 科技新報·2026-09-17 10:47 北京·#晶片字號AAAA訂閱《讀懂AI時代》每早 8 點一封,昨天 AI 圈大事一次讀完。免費。郵箱地址訂閱本條暫無中文擴充套件報道,可點選下方按鈕直達原文。閱讀原文 · TechNews 科技新報 ↗延伸閱讀相關深度報道系列 · 中國AI深度華為用「連」補「算」:十萬卡叢集利用率從20%提到35%,差距補回了多少系列 · 中國AI深度晶片管制三年總清算:華盛頓到底給自己買到了幾個月?系列 · 中國AI深度十萬卡「登峰」:曙光8000落成,全國產算力的真實成色相關每日新聞美國AI資料中心規劃規模超出晶片封裝供給能力2026-09-30浪潮資訊釋出元腦SD200 Ultra,單機承載2.8萬億引數Kimi K32026-09-30華為5500顆Hi-ONE光引擎將進入4096卡昇騰960超節點2026-09-30AMD與英特爾9月各漲約29%,半導體ETF SOXX邁向6月以來最佳月度表現2026-09-30DeepSeek 攜手華為開發昇騰晶片程式設計工具2026-09-30