美國華盛頓研究機構「科技與國家治理能力中心」（Centre for Technology Statecraft）9月釋出的一份報告指出，儘管美國已限制向中國出口先進半導體制造裝置，中國晶圓廠仍在持續獲得浸潤式深紫外（DUV）微影系統。據香港《南華早報》2日報道，該報告估算，截至今年初，中國晶圓廠預計已取得343台浸潤式DUV裝置。

報告作者包括美國出口管制領域的前官員以及美國商務部科技政策前顧問。報告稱，在這343台裝置中，有270台屬於荷蘭半導體裝置製造商艾司摩爾（ASML）的Twinscan NXT:1980i系統。報告進一步估算，僅2024年及2025年，中國晶圓廠為購買NXT:1980i系統就花費了超過130億美元。

這一現象的背景是，美國出口管制禁止向中國出口規格更高的極紫外光曝光機（EUV），因此中國晶片製造商高度依賴不在美國出口管制範圍內的浸潤式DUV來生產先進半導體。雖然浸潤式DUV在技術上落後於EUV，但經過調整後，仍可用於製造7奈米邏輯晶片，以及人工智慧處理器所需的高階記憶體——報告特別提到華為昇騰系列。

荷蘭當局自2023年9月起規定，出口ASML規格更高的NXT:2000i及以上浸潤式DUV需要許可證；此後也規定出口NXT:1980i系統需要許可證，但該型號的出口仍可逐案獲得批准。報告認為，目前的做法留下了重大漏洞。

為堵塞這一漏洞，報告建議全面禁止向中國出口浸潤式DUV，同時限制相關零件供應與維修服務。報告還建議美國與荷蘭協調，或單方面將美國的出口管制擴大到採用美國技術的外國製造裝置。

從產業角度看，這份報告觸及當前半導體出口管制體系的一個核心爭議：管制門檻應劃在哪一代裝置上。浸潤式DUV本身並非最先進製程的必需裝置，但通過多重曝光等工藝調整，它仍能支撐7奈米級邏輯晶片以及部分AI晶片所需的高頻寬記憶體生產。這意味著，只要浸潤式DUV及其零部件、維修服務仍可流入，中國在先進製程上的產能擴張就難以被完全阻斷。

對ASML而言，NXT:1980i屬於較早期型號，但中國廠商在2024至2025年為其投入超130億美元，顯示該型號在中國市場仍有可觀需求。若美國推動全面禁令並限制零部件與維修，ASML的對華銷售結構以及已售裝置的後續服務收入都可能受到影響。對荷蘭政府來說，是否進一步收緊許可、以及是否配合美國將管制延伸至採用美國技術的外國裝置，涉及本國產業利益與盟友協調之間的平衡。

對中國晶片產業而言，報告所描述的存量裝置規模，一定程度上解釋了其在出口管制下仍能維持部分先進產能的原因；但若零部件與維修服務被限制，已購裝置的長期運轉與維護將面臨不確定性，這也可能進一步強化國產裝置替代的緊迫性。

需要注意的是，上述數字均來自該研究機構的估算與報告，並非官方統計。報告的建議能否轉化為實際政策，仍取決於美國、荷蘭等相關方的後續決策。