觀點評分 6/10瑞銀分析師:中國十年內難追上ASML極紫外光技術瑞銀預測,中國半導體制造未來十年或難取得足夠進展,以替代ASML的EUV技術。來源:TechNews 科技新報·2026-09-02 14:00 北京·#晶片字號AAAA訂閱《讀懂AI時代》每早 8 點一封,昨天 AI 圈大事一次讀完。免費。郵箱地址訂閱本條暫無中文擴充套件報道,可點選下方按鈕直達原文。閱讀原文 · TechNews 科技新報 ↗延伸閱讀相關深度報道系列 · 中國AI深度華為用「連」補「算」:十萬卡叢集利用率從20%提到35%,差距補回了多少系列 · 中國AI深度晶片管制三年總清算:華盛頓到底給自己買到了幾個月?系列 · 中國AI深度十萬卡「登峰」:曙光8000落成,全國產算力的真實成色相關每日新聞48位分析師中32位給英特爾持有評級,年內漲幅212%2026-10-01英特爾9月收官漲3%至119.23美元,輝達微漲AMD下跌2026-10-01Simply Wall St 點名博通、應用材料、閃迪三隻 AI 晶片股2026-10-01台積電評估在得州擴產,亞利桑那投資已達2650億美元2026-09-30美光與閃迪業績強勁,為何估值仍被低估?2026-09-30