据科技媒体The Information本周报道，一家获得中国政府支持、未具名的中国企业已开始自行制造深紫外（DUV）光刻机。这一消息导致全球光刻机龙头ASML（纳斯达克代码：ASML）股价在当日交易中下跌约4.12%，收于1,584.98美元，市值约6,100亿美元。

DUV光刻机属于较成熟的技术，主要用于制造较老制程的芯片、先进芯片的非关键部分，以及普通DRAM和闪存。ASML虽然是DUV市场的最大供应商，但并非独家——日本企业尼康和佳能也供应同类设备。真正让ASML占据不可替代地位的是其独家掌握的极紫外（EUV）光刻技术，这是制造先进逻辑芯片和高带宽内存（HBM）所必需的核心设备。一台EUV光刻机售价可超过2.2亿美元，而DUV设备价格从500万美元的低端型号到约9,000万美元的高端浸没式机型不等。

分析人士指出，中国自研DUV光刻机的突破短期内不太可能冲击ASML的业绩。一方面，ASML受出口管制限制，已不能向中国销售EUV和先进DUV设备，仅允许出售较老技术系统。上季度，中国区收入仅占ASML总营收的14%。另一方面，美国国会此前已有法案，拟阻止ASML向预计将接收这批自研DUV设备的前三家中国企业销售或提供维修服务，这部分收入本就在被切断的预期之中。

真正驱动ASML增长的是EUV业务。该公司计划今明两年将EUV产能提升30%，并可能延续至2028年。其下一代High NA EUV技术虽因高达4亿美元的单价遭晶圆厂暂时观望，但长期看仍是推动芯片工艺进步的必要工具。随着AI芯片和HBM市场持续爆发，ASML作为EUV独家供应商，仍是这一产业链上的关键受益者。

此次股价回调更多反映市场对中国技术追赶的短期情绪反应，而非ASML核心竞争力的根本变化。不过，中国在半导体设备领域的自主化努力持续加速，长期可能逐步侵蚀ASML在DUV市场的份额，但EUV技术极高的壁垒意味着ASML在先进制程设备上的垄断地位在可预见的未来仍难以被挑战。