據科技媒體The Information本週報道，一家獲得中國政府支援、未具名的中國企業已開始自行製造深紫外（DUV）光刻機。這一訊息導致全球光刻機龍頭ASML（納斯達克程式碼：ASML）股價在當日交易中下跌約4.12%，收於1,584.98美元，市值約6,100億美元。

DUV光刻機屬於較成熟的技術，主要用於製造較老製程的晶片、先進晶片的非關鍵部分，以及普通DRAM和快閃記憶體。ASML雖然是DUV市場的最大供應商，但並非獨家——日本企業尼康和佳能也供應同類裝置。真正讓ASML佔據不可替代地位的是其獨家掌握的極紫外（EUV）光刻技術，這是製造先進邏輯晶片和高頻寬記憶體（HBM）所必需的核心裝置。一台EUV光刻機售價可超過2.2億美元，而DUV裝置價格從500萬美元的低端型號到約9,000萬美元的高階浸沒式機型不等。

分析人士指出，中國自研DUV光刻機的突破短期內不太可能衝擊ASML的業績。一方面，ASML受出口管制限制，已不能向中國銷售EUV和先進DUV裝置，僅允許出售較老技術系統。上季度，中國區收入僅佔ASML總營收的14%。另一方面，美國國會此前已有法案，擬阻止ASML向預計將接收這批自研DUV裝置的前三家中國企業銷售或提供維修服務，這部分收入本就在被切斷的預期之中。

真正驅動ASML增長的是EUV業務。該公司計劃今明兩年將EUV產能提升30%，並可能延續至2028年。其下一代High NA EUV技術雖因高達4億美元的單價遭晶圓廠暫時觀望，但長期看仍是推動晶片工藝進步的必要工具。隨著AI晶片和HBM市場持續爆發，ASML作為EUV獨家供應商，仍是這一產業鏈上的關鍵受益者。

此次股價回撥更多反映市場對中國技術追趕的短期情緒反應，而非ASML核心競爭力的根本變化。不過，中國在半導體裝置領域的自主化努力持續加速，長期可能逐步侵蝕ASML在DUV市場的份額，但EUV技術極高的壁壘意味著ASML在先進製程裝置上的壟斷地位在可預見的未來仍難以被挑戰。