據荷蘭媒體NL Times與NU.nl報道，美國政府正準備向荷蘭政府施壓，要求其禁止ASML向中國銷售幾乎所有晶片製造裝置，包括深紫外光（DUV）光刻機。此舉旨在阻礙中國在人工智慧、超級計算機及軍事技術領域的發展。此前，荷蘭政府在美國壓力下已禁止ASML向中國出口最先進的極紫外光（EUV）光刻裝置，自2019年起ASML便未向中國出貨任何EUV裝置，並限制部分先進DUV光刻機的銷售。

美國國會正在審議跨黨派的《硬體技術管制多邊協調法案》（MATCH Act），試圖將施壓轉化為直接脅迫，強制盟國與美國出口管制同步。若該法案通過，ASML不僅無法再向中國銷售DUV光刻裝置，甚至已交付裝置的維護與保養也將被禁止。若荷蘭拒絕執行，美國將對其實施制裁。由於ASML高度依賴美國供應鏈，美方曾威脅中斷供應，這成為迫使荷蘭政府妥協的關鍵。

荷蘭官員正在華盛頓激烈遊說，試圖廢除該條款，但因法案獲得美國民主與共和兩黨支援，且將併入幾乎必定通過的國防預算案，挽回機會十分渺茫。值得注意的是，該法案對美國本土企業存有寬限空間。中國此前發現，結合先進蝕刻技術與DUV光刻機，仍可生產出通常需要EUV才能製造的先進晶片。雖然美方在2024年對此類蝕刻機實施部分限制，但並未徹底禁運。而在最終版《MATCH法案》中，限制美企向中國銷售先進蝕刻機的廣泛禁令已被刪除，但對ASML的DUV禁令卻依然保留，顯現出政策上的雙重標準。

在面臨斷供與斷維修的威脅下，中國半導體產業正加速自主化。上海宇量盛科技已於2026年7月開始限量生產浸潤式DUV光刻機，預計年底前交付5套系統，目標在2027年前生產約20台。目前，包括中芯國際（SMIC）、長鑫儲存（CXMT）及華虹半導體等中國晶片大廠均已列入客戶名單。

分析指出，若美方禁令未立即實施，對中國未來的DUV裝機影響有限。若能爭取到足夠時間，中國極有可能實現DUV領域的完全自主化。但若禁令迅速落實，短期內仍將對高度依賴ASML裝置的中國晶片商造成不小的過渡挑戰。這場圍繞光刻技術的拉鋸戰，將決定未來全球半導體產業鏈的全新版圖。