据荷兰媒体NL Times与NU.nl报道，美国政府正准备向荷兰政府施压，要求其禁止ASML向中国销售几乎所有芯片制造设备，包括深紫外光（DUV）光刻机。此举旨在阻碍中国在人工智能、超级计算机及军事技术领域的发展。此前，荷兰政府在美国压力下已禁止ASML向中国出口最先进的极紫外光（EUV）光刻设备，自2019年起ASML便未向中国出货任何EUV设备，并限制部分先进DUV光刻机的销售。

美国国会正在审议跨党派的《硬件技术管制多边协调法案》（MATCH Act），试图将施压转化为直接胁迫，强制盟国与美国出口管制同步。若该法案通过，ASML不仅无法再向中国销售DUV光刻设备，甚至已交付设备的维护与保养也将被禁止。若荷兰拒绝执行，美国将对其实施制裁。由于ASML高度依赖美国供应链，美方曾威胁中断供应，这成为迫使荷兰政府妥协的关键。

荷兰官员正在华盛顿激烈游说，试图废除该条款，但因法案获得美国民主与共和两党支持，且将并入几乎必定通过的国防预算案，挽回机会十分渺茫。值得注意的是，该法案对美国本土企业存有宽限空间。中国此前发现，结合先进蚀刻技术与DUV光刻机，仍可生产出通常需要EUV才能制造的先进芯片。虽然美方在2024年对此类蚀刻机实施部分限制，但并未彻底禁运。而在最终版《MATCH法案》中，限制美企向中国销售先进蚀刻机的广泛禁令已被删除，但对ASML的DUV禁令却依然保留，显现出政策上的双重标准。

在面临断供与断维修的威胁下，中国半导体产业正加速自主化。上海宇量盛科技已于2026年7月开始限量生产浸润式DUV光刻机，预计年底前交付5套系统，目标在2027年前生产约20台。目前，包括中芯国际（SMIC）、长鑫存储（CXMT）及华虹半导体等中国芯片大厂均已列入客户名单。

分析指出，若美方禁令未立即实施，对中国未来的DUV装机影响有限。若能争取到足够时间，中国极有可能实现DUV领域的完全自主化。但若禁令迅速落实，短期内仍将对高度依赖ASML设备的中国芯片商造成不小的过渡挑战。这场围绕光刻技术的拉锯战，将决定未来全球半导体产业链的全新版图。