據《The Information》援引知情人士訊息，一家由中國國資支援的上海公司已開始製造浸沒式深紫外（DUV）光刻機，旨在幫助國內晶片製造商減少對進口裝置的依賴。該報道未透露公司名稱，但稱其計劃今年製造約5台DUV光刻機，到2027年將產量提升至約20台。

知情人士透露，該專案的研發團隊整合了包括上海鈺亮盛科技（Shanghai Yuliangsheng Technology）在內的多家中國企業的浸沒式DUV開發人員。鈺亮盛本身也是一家國資背景的晶片裝置初創公司。

首批計劃今年交付的系統預計將提供給國內主要晶片製造商：中芯國際、華虹半導體以及儲存晶片廠商長鑫儲存。值得注意的是，這三家公司均被列入美國《匹配法案》（MATCH Act）的管制名單——如果該法案在國會通過，將禁止荷蘭光刻機巨頭ASML向它們銷售或提供服務。

光刻是晶片製造中用於晶圓圖案化的關鍵工藝，直接決定晶片的製程精度。目前，ASML在全球DUV和極紫外（EUV）光刻機市場佔據絕對主導地位。該公司預計2026年將出貨130台浸沒式DUV系統。中國企業的這一追趕計劃，直接瞄準了ASML的核心市場。

這並非ASML首次面臨挑戰。2025年10月，美國初創公司Substrate宣稱已開發出能夠與ASML產品競爭的晶片製造工具。在英國，南安普頓大學則開設了歐洲首個電子束光刻設施，該技術利用聚焦電子束在材料上製造傳統光刻無法實現的極小圖案。

中國在光刻機領域的突破，對於AI晶片產業鏈至關重要。先進的AI加速晶片（如輝達的GPU）依賴極紫外（EUV）光刻，而成熟製程晶片及部分AI推理晶片則廣泛使用DUV光刻。如果中國能實現DUV光刻機的自主生產，將顯著降低對ASML的依賴，並保障國內AI基礎設施建設的晶片供應安全。不過，從原型機到穩定量產、達到國際主流良率水平，仍有巨大挑戰。