据《The Information》援引知情人士消息，一家由中国国资支持的上海公司已开始制造浸没式深紫外（DUV）光刻机，旨在帮助国内芯片制造商减少对进口设备的依赖。该报道未透露公司名称，但称其计划今年制造约5台DUV光刻机，到2027年将产量提升至约20台。

知情人士透露，该项目的研发团队整合了包括上海钰亮盛科技（Shanghai Yuliangsheng Technology）在内的多家中国企业的浸没式DUV开发人员。钰亮盛本身也是一家国资背景的芯片设备初创公司。

首批计划今年交付的系统预计将提供给国内主要芯片制造商：中芯国际、华虹半导体以及存储芯片厂商长鑫存储。值得注意的是，这三家公司均被列入美国《匹配法案》（MATCH Act）的管制名单——如果该法案在国会通过，将禁止荷兰光刻机巨头ASML向它们销售或提供服务。

光刻是芯片制造中用于晶圆图案化的关键工艺，直接决定芯片的制程精度。目前，ASML在全球DUV和极紫外（EUV）光刻机市场占据绝对主导地位。该公司预计2026年将出货130台浸没式DUV系统。中国企业的这一追赶计划，直接瞄准了ASML的核心市场。

这并非ASML首次面临挑战。2025年10月，美国初创公司Substrate宣称已开发出能够与ASML产品竞争的芯片制造工具。在英国，南安普顿大学则开设了欧洲首个电子束光刻设施，该技术利用聚焦电子束在材料上制造传统光刻无法实现的极小图案。

中国在光刻机领域的突破，对于AI芯片产业链至关重要。先进的AI加速芯片（如英伟达的GPU）依赖极紫外（EUV）光刻，而成熟制程芯片及部分AI推理芯片则广泛使用DUV光刻。如果中国能实现DUV光刻机的自主生产，将显著降低对ASML的依赖，并保障国内AI基础设施建设的芯片供应安全。不过，从原型机到稳定量产、达到国际主流良率水平，仍有巨大挑战。