一則關於日本四大光刻膠巨頭全面停止向中國供應高階光刻膠的訊息近日在中文網路廣泛傳播，引發市場對半導體產業鏈安全的強烈關注。訊息稱，東京應化、JSR、信越化學、富士膠片——這四家合計控制全球約90%高階光刻膠市場的日本企業——已宣佈停止接收中國ArF/EUV光刻膠新訂單，大幅壓縮KrF光刻膠新增訂單，並撤出全部在華駐場工藝技術團隊，導致售後、除錯、配方適配中斷，存量合同交貨週期拉長至6-8個月，實際交付量大幅縮水。

然而，經多方查證，這一訊息缺乏關鍵證據支撐。中國海關總署資料顯示，2026年1月至5月，中國自日本進口光刻膠數量分別為1622噸、1495噸、1958噸、1910噸和1939噸，五個月累計超過8900噸，整體進口規模並未出現“斷崖式下跌”。雖然海關資料未單獨列出ArF/EUV光刻膠品類，但總量穩定表明供應未發生根本性中斷。值得注意的是，早在2025年11月就曾出現過類似傳聞，當時涉及的是佳能、尼康等不生產光刻膠的企業，後被媒體闢謠為股票投機者散佈。2025年12月3日，日本內閣官房長官木原稔在新聞釋出會上明確否認日本已停止向中國出口光刻膠。此次傳聞內容與上次高度相似，但日本專業媒體、四大企業官網及國內專業媒體均未對此進行報道。

光刻膠在晶片製造中扮演著“感光底片”的角色，其效能直接決定晶片圖案的精度與良率。隨著製程進入7奈米、5奈米甚至3奈米，光刻膠面臨解析度、靈敏度和線邊緣粗糙度之間的“三角難題”，尤其在EUV（13.5奈米極紫外光） 工藝中，光子數量減少導致隨機缺陷風險上升，使得光刻膠成為先進製程的關鍵瓶頸。日本企業自上世紀60年代起佈局光刻膠，積累了數千種經過量產驗證的工藝配方和與全球晶圓廠共同研發的技術體系，形成了極高的壁壘。

但日本並非唯一的高階光刻膠供應方。中國光刻膠國產化率已從五年前的約5%提升至2024年的約15%，其中成熟製程用G-line、I-line光刻膠國產化率超過30%，KrF光刻膠自給率從不足10%提升至15%以上，進入規模化供貨階段。北京科華已成為國內KrF光刻膠主要供應商之一，其上海基地千噸級產能進入試生產，並向ArF光刻膠及上游樹脂延伸。南大光電累計有6款ArF光刻膠產品通過客戶驗證並銷售，是國內唯一實現28nm浸沒式ArF光刻膠商業化批次供貨的企業。徐州博康產品覆蓋28nm至90nm節點，30餘款光刻膠通過多家頭部客戶驗證，ArF產品已進入中芯國際與長江儲存供應鏈。此外，韓國在2019年日韓貿易摩擦後大力推進光刻膠國產化，東進世美肯等企業產品已進入三星等晶圓廠供應鏈，EUV光刻膠僅落後日本1至2代，為中國提供了繞道採購的可能。

從市場供需看，全球半導體光刻膠市場規模僅約33億美元（2025年），而中國2024年市場規模達7.71億美元，佔全球需求的28.2%，是日本企業的重要收入來源。日本經濟產業省自2023年起對半導體裝置實施出口管制，但始終未將光刻膠納入禁令，也反映出日本產業對中國市場的依賴。若日本斷供，對其自身的影響可能大於對中國。

這則未經證實的傳聞之所以引發巨大焦慮，根源在於高階光刻膠長期是中國半導體產業鏈的薄弱環節。但當前中國已具備一定替代能力，韓國等也提供了備選方案。即使未來日本收緊供應，影響更多體現在成本、認證和供應鏈調整上，而非產業停擺。對中國半導體產業而言，真正的挑戰不是證明別人不會斷供，而是確保即使斷供也能繼續前行。